日經(jīng)新聞8日訊，去年日本專利申請(qǐng)件數(shù)同比下降4%，為32萬(wàn)件，位列中國(guó)、美國(guó)之后。而中國(guó)申請(qǐng)件數(shù)同比增26%，為82萬(wàn)件，是日本的2.5倍，中日兩國(guó)差距逐漸拉大。

日本專利申請(qǐng)書(shū)在05年為42萬(wàn)件，居全球之首。但06年被美國(guó)超越，10年被中國(guó)超越，淪落第三。

專利申請(qǐng)件數(shù)是反映該國(guó)市場(chǎng)魅力的一面鏡子。日本專利申請(qǐng)持續(xù)低迷的原因有，一是因人口減少和專利審查嚴(yán)格，國(guó)外企業(yè)感受不到在日本申請(qǐng)專利的好處。二是日本國(guó)內(nèi)研究經(jīng)費(fèi)不足。

如果這種局面持續(xù)，將導(dǎo)致技術(shù)創(chuàng)新不足、經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)緩慢和研究經(jīng)費(fèi)進(jìn)一步被削減的惡性循環(huán)。

專利有效期為從申請(qǐng)之日起20年，如果申請(qǐng)時(shí)間長(zhǎng)，那么專利使用權(quán)就會(huì)變短。現(xiàn)在日本專利申請(qǐng)期平均為2年5個(gè)月，而中國(guó)和韓國(guó)則為1年10個(gè)月，這導(dǎo)致大企業(yè)在日研究和申請(qǐng)專利意愿降低。

日本專利管理部門(mén)計(jì)劃在2023年將專利申請(qǐng)期縮短至1年2個(gè)月，速度是現(xiàn)在的2倍，為世界最快。

（大阪經(jīng)商室）